Оптико-эмиссионный спектрометр OBLF VeOS

 

 

Оптический эмиссионный спектрометр OBLF VeOS, универсальный экспресс-анализатор химического состава

 

Оптический эмиссионный спектрометр OBLF VeOS – универсальный, гибкий экспресс-анализатор любых металлов и сплавов.

 

Регистрация сигналов оптического эмиссионного спектрометра VeOS основана на охлаждаемых CCD- детекторах.

 

Оптический эмиссионный спектрометр OBLF VeOS применяется на любых предприятиях для контроля химического состава металлов и сплавов. Используется для научных исследований (например, для изучения межэлементных влияний в сплавах и т.п.), разработки новых сплавов.

 

Преимущества:

 

  • Одновременное определение всех элементов в пробе
  • Анализ различных матриц (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
  • Возможность комбинирования разных матриц на одном приборе
  • Анализ N, C, S, P (азот, углерод, сера, фосфор) в металлах
  • Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа

 

OBLF VeOS

 

  • Решает широкий круг практических задач промышленных лабораторий металлургических предприятий, включая производителей чистых металлов.
  • Стационарный эмиссионный спектрометр, основанный на полупроводниковой сенсорной системе. Бескомпромиссная конструкция, сочетающая высокие аналитические показатели с невероятной гибкостью CCD/CMOS детекторов.
  • Обеспечивает точный анализ коротковолновых элементов, напр. сера, фосфор, азот, низкие концентрации углерода в стали, фосфор в алюминии и т.д.

 

Достоинства:

 

  • Всеобъемлющая мультиматричная система без ограничений в выборе элементов для анализа
  • Выбор любой спектральной линии пользователем в диапазоне от 130 до 780 нм.
  • Одновременное определение всех элементов в пробе
  • Анализ различных основ (Fe, Al, Ni, Ti, Cu, Zn, Co, Mg, Pb, Sn)
  • Возможность комбинирования разных основ на одном приборе
  • Анализ N, C, S, P в металлах
  • Удовлетворяет всем аналитическим задачам
  • Легко добавляемые аналитические линии
  • Новейшая, специально разработанная технология детекторов
  • Точное определение низких пределов содержания N и C (технология ULC)
  • Превосходные эксплуатационные качества благодаря пределу обнаружения, точности и стабильности
  • Автоматическое профилирование и коррекция дрейфа
  • Надёжная конструкция для работы в жестких производственных условиях

 

Детекторы

 

Конструкция светочувствительных детекторов CMOS специально приспособлена для требований эмиссионной спектрометрии. Они отличаются большой светочувствительной поверхностью, которая в 100 раз больше, чем в сопоставимых системах.

 

  • В VeOS применяются высококачественные эксклюзивные твердотельные детекторы, разработанные специально для эмиссионной спектроскопии
  • Усовершенствована чувствительность сенсоров:большая площадь пиксела: узкие и высокие пикселы (для повышения разрешения и чувствительности)отсутствие органических покрытий для повышения чувствительности в УФ- диапазоне (как результат- долговременная стабильность)
  • Истинная технология компенсации шума CDS (двойное сэмплирование)
  • Улучшена чувствительность в УФ-области без органического покрытия
  • Избирательная чувствительность для каждого сенсора
  • 16 битное АЦП преобразование для измерения в большом динамическом диапазоне
  • Быстрое считывание за 2 мс
  • Отсутствие блюмингового эффекта (эффекта «распускания») благодаря специальной конструкции транзистора
  • Охлаждение детекторов для уменьшения темнового шума и улучшения стабильности сигнала
  • Технология объединения сигналов с пикселов для повышения аналогового сигнала (только для CMOS)

 

Необслуживаемый цифровой генератор GDS III

 

  • Обеспечивает высочайшую степень воспроизводимости по всем параметрам возбуждения
  • Улучшает точность и пределы обнаружения концентраций элементов
  • Снижает межэлементные влияния и влияние фона
  • Параметры возбуждения оптимизированы
  • Программируемая частота разряда 1 Гц- 1 кГц

 

Искровой штатив

 

Конструкция штатива позволяет получать оптимальный световой поток для элементов, возбужденных в различных областях плазмы, что крайне важно для определения следовых концентраций

 

  • Оптимальный участок плазмы искры
  • Запатентованная импульсная продувка аргоном
  • Термостабилизация штатива
  • Простой доступ для обслуживания

 

Считывающая и обрабатывающая электроника полностью помещены в термостабилизированную вакуумную камеру.

 

Программное обеспечение

 

Базируется на концепции OBLF, сочетающей использование микропроцессоров для контроля работы отдельных устройств спектрометра и регистрации аналитических сигналов, с центральным управляющим ПК и аналитическим программным обеспечением на базе платформы Windows™. Управляется с помощью системы меню, оптимизировано для быстрой работы. Экранный интерфейс оператора на русском языке.

Возможности

 

  • Обработка данных спектраразличные режимы сглаживания формы кривой спектральных линий (FFT, spline, Savitzky-Golay)«вычитание» фона для каждой линиипостоянная проверка профиля линиииспользование нескольких линий сравнения«Анализатор спектра» (позволяет увидеть на экране весь спектр, параметры канала)
  • Технологии компенсации фона
  • Расчет интенсивностей канала (n-Pixel-Integral, Gauss area, Peakheight)
  • Виртуальная выходная щель шириной 3 — 100 pm
  • Линейная интерполяция для «улучшения» спектрального разрешения
  • Контроль профиля
  • Контроль темнового тока
  • Автоматическое профилирование с помощью ПО

 

Технические характеристики

 

Характеристика

Значение

Оптическая схема Пашена-Рунге

500 мм

Плоская решётка

160 мм

Разрешение дифракционной решётки

2600 линий/мм

Обратная дисперсия для 1-го порядка

0,78 и ~4 нм/мм

Диапазон длин волн

130-680/780 нм

Частота искрового разряда

1 — 1000 Гц

Чистота аргона

99,998 %

Расход аргона на один прожиг в Fe-матрице

макс. 2,4 л

Расход аргона во время ожидания

капиллярный

Габариты прибора, Д х Ш х В

1150 х 740 х 1340 мм

Вес нетто

300 кг